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谁说科技无国界?一定是有的,而且这个界比万里长城还难

谁说科技无国界?一定是有的,而且这个界比万里长城还难,谈到光刻机就被卡住了,大家都咽不下这口气吧?

引用路透社去年4月份Peter Winnink的一段话是："ASML's CEO Peter Wennink said on Wednesday it was "logical" that China would seek to develop its own semiconductor equipment when it is restricted from purchasing tech products made abroad.（ASML 首席执行官彼得-温尼克（Peter Wennink）周三表示，当中国被限制购买国外制造的科技产品时，寻求开发自己的半导体设备是 "合乎逻辑的"。）

被网友们解读成:"荷兰光刻机巨头阿斯麦总裁：中国自主研发光刻机，破坏了全球芯片产业链平衡，尤其是华为公司."......大概意思是:我们中国自主研发了光刻机，自主发展半导体周边相关产业链行为，看样子上无可厚非的，但实际上却破坏了全球半导体产业链生态平衡，以各国利益为代价，换取自身的发展，这是非非常自私的行为！尤其是华为公司，他们更应该见好就收，不该在该领域继续发力。

说白了,光刻机目前对于我们中国来说,就是一块天花板,有那么容易就研发出来?科技的文明并不是仅仅拥有社会文明就能完成的,这方面需要国际资源,相互协作完成,首先我举例几项东西, 光刻机国产化之路：三大核心系统-光源，光学系统，双工件台系统!

光学临近效应修正示意图

光刻机的结构比较复杂，核心部件达上百余种!

第1:光源和物镜

目前能做光刻机镜头的为数不多,EUV光刻机为啥这么难造，因为他里面有多达上十万个零部件。而最难的要数投影物镜。目前荷兰阿斯麦就是由德国蔡司提供,而蔡司是全球顶级光学仪器公司。当然了亚洲也有光刻机,比如日本佳能,尼康,他们也有自己的光刻机系统,镜片的结构设计难度极大，不仅要控制物镜波像差,尤其是佳能在该技术上面也有不少企业在使用。

从上一篇研究文件中内容:激光光源是实现更精确光刻的关键。目前最顶尖的光刻机的光源波长达到13.5nm，也被称为极紫外光。EUV光源由光的产生、光的收集、光谱的纯化与均匀化三大单元组成。光源长期以来一直是EUV光刻的一个挑战

第2:光学系统,

光刻机光学系统的难度可谓极高，这不仅仅是因为它集成了众多高精尖的技术，更在于它需要在极小的空间内实现极高的精度和稳定性。光刻机中的投影物镜一般由凸透镜、凹透镜和棱镜等一系列透镜组成，其作用是将光源发出的光束进行聚焦和投射。在光刻机中，投影物镜将掩模版上的电路图案缩小到一定比例后，聚焦成像到预涂光阻层的晶圆上。其中，光源的选择和参数确定就是一项极为复杂的任务，它需要考虑到光源的光强、波长以及稳定性等多个因素，以确保曝光过程中的图案质量和制造效率。

第3:晶圆上面的双工位磁悬浮滑台

高精度纳米级的磁性电机、目前国内的电机厂商,有那家企业能够独立自主完成了吗?就是做出来的磁性电机,是否能够匹配?根据我自动化行业多年经验,目前国内做平台磁驱几乎为零,所以你说光刻机哪有这么容易研发出来呢?在国内做驱动的工业自动化领域可以拿汇川出来对标不?你看汇川有做出这个产品了吗?答案是没有!

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那些打不死你的，终将让你变得更加强大

这三大件就像汽车发动机,减速箱,底盘三大件核心一样,难啃的骨头,人家发展了几十年,想要弯道超车,一下子怎么可能,所以现在汽车行业的"弯道超车"是使用电动系统。

抛开上面三大件,还有很多周边的配件我们都无法做到,比如整个工作台如何避免光刻时候产生的共振?他们的系统下方都安装有一套主动减震的系统,这套减震系统就价值几十万甚至上百万,目前我们国内技术也无法超越。由于无法突破技术瓶颈，我国减振器长期依赖进口。

国产主动减震器,现用于300纳米光刻平台

从技术，产品，产业链，规模效应，我认为只有华为以及中芯国际等企业联合开发，未来才有机会突破国外技术,虽然荷兰阿斯麦的价格巨高，但应用于领域标配,不得不继续采购。

写到最后:

结语

看了阿斯麦昨天发布了新款EUV紫光光刻机，一下子进入了沉默之中....回头看看现在的机械也很难做，技术突破确实靠试。我们不断实验找合适的平衡点。有时候想抄国外的技术你会发现，很多产品都是特供的。别人根本不卖。自己研究基础学科又不行，没有足够的实验数据，猜又猜的不一定对。说机械行业可以弯道超车的个人认为不太现实。技术积累不仅仅是设计，调试，控制，物料……这些东西是需要时间。

来源：洞察3C前沿

本文初摘录于：2024-06-11，最后校对或编辑于：2024-06-11